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勻膠旋塗儀學會2個參數,輕鬆掌握!

點擊次數:144 發布時間:2020-05-13

  勻膠旋塗儀對於從事微流控領域的研究者來說並不陌生,它可以用來製備膜厚度<10nm薄膜,在1-100um厚度的光刻膠沉積光刻工藝中也常常用到。在微流控領域,載玻片、矽片、ITO導電玻璃等都可作為薄膜塗覆基底材料。勻膠旋塗儀原理簡單來講,通過片托產生負壓,將需旋塗基底材料吸附在片托上,然後將塗覆材料膠液滴注在基底材料表麵,通過調節電機轉速,來改變離心力大小,同時控製膠液流量,從而獲得想要的膜厚度,當然,膜厚度還跟旋塗時間、膠液粘度、溫度以及濕度等因素有關。 
  勻膠旋塗儀性能相關的幾個參數:
 
  1.片托材質:目前大部分勻膠機片托材質采用的一般是鋁合金或者是普通塑料,原因是成本低,對於一般要求是能夠滿足需求的,但是對於要求比較嚴苛行業來說,比如半導體以及化工行業,由於鋁合金抗腐蝕性不是很好,高溫和高壓會導致塑料你變形等原因,對於片托的要求就比較高,目前一般采用天然聚丙烯以及聚四氟乙烯材料,原因是這兩種具有材質綠色環保、重量輕、強度大,堅固耐用以及抗衝擊性能好等優點。
 
  2.真空吸附以及清洗係統:真空泵係統壓力標定需準確,若實際壓力降低,可能會存在飛片現象,容易產生實驗事故。使用完旋塗儀後,需在泵開啟狀態,用有機溶劑進行氣孔清洗,確保下次正常使用。

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